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2024年12月27日发(作者：电脑总是显示服务主进程)

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：Substrate cleaning method and cleaning

apparatus

发明人：Yasuyuki Deguchi

申请号：US10382584

申请日：20030307

公开号：US2A1

公开日：20030911

专利附图：

摘要：A substrate is cleaned by supplying an ultrasonically-agitated cleaning liquid

onto the substrate from a nozzle provided above the substrate while spinning the

substrate. The substrate being cleaned is spun at a rotational speed of 2600 rpm or more

and 3500 rpm or less, or at a rotational speed of 260×V/D (rpm) or more and 350×V/D

(rpm) or less, where D (mm) is a diameter of the nozzle and V (mm/sec) is a moving

velocity of the nozzle.

申请人：MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.

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