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2024年12月28日发(作者：上银导轨)

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：Exposure system and exposure method

发明人：Kinya Yamaguchi,Yuichi Takamura

申请号：US11396795

申请日：20060403

公开号：US2A1

公开日：20061005

专利附图：

摘要：An exposure system for exposing a substrate to radiation is disclosed. The

system comprises an exposure unit configured to expose the substrate to radiation, an

exposure chamber configured to accommodate the exposure unit, an alignment

measurement unit arranged outside the exposure chamber and configured to measure a

position of an alignment mark on the substrate, and a load-lock chamber arranged

between the exposure chamber and the alignment measurement unit.

申请人：Kinya Yamaguchi,Yuichi Takamura

地址：Utsunomiya-shi JP,Utsunomiya-shi JP

国籍：JP,JP

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本文标签： 专利 知识产权 出版社

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